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真空壓力浸滲爐

發(fā)布時間:2018/11/14
真空壓力浸滲爐

真空浸滲爐簡介

 結構說明:

1.         熔煉采用中頻感應加熱電源

2.         控制系統分為兩部分:一部分真空系統及壓機控制;另一部分模具加熱控制。

3.         真空系統控制:真空泵、控制閥。

4.         模具加熱:分兩組一組為流槽加熱,采用單相加熱;另一組為模具加熱,采用三相加熱,自動控溫。

5.         壓機控制:設置壓頭位移數顯儀表,壓頭升降控制,位移速度調整,壓力數顯儀表,壓力調整;壓機油泵。

6.         熔煉線圈傾轉控制:采用直流調速電機,傾轉角度設置上、下限開關。

主要技術參數

a)熔煉中頻電源功率:            50KW

b)熔煉中頻電源頻率:            4000Hz

c)熔煉加熱最高溫度:             1700℃

d)熔煉額定容量(用石墨坩堝熔鋁) 3Kg

e)熱壓模具加熱溫度               900℃

f)加壓壓力最大:                 20t

g)壓力浸滲模具(內徑*高度)

h)爐內極限真空度:               ≤6.67×10-3Pa

i)壓升率:                      ≤5 Pa/h

j) 壓頭行程:                     ≥250毫米

k)水冷壓頭直徑:                 100mm

l) 壓頭行程速率:                 1~100mm/min

 


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